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朱彦旭 (朱彦旭.) | 范玉宇 (范玉宇.) | 曹伟伟 (曹伟伟.) | 邓叶 (邓叶.) | 刘建朋 (刘建朋.)

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Abstract:

在制备串联高压LED阵列工艺中,ICP刻蚀工艺引起的漏电与断路问题是高压LED电流输运特性中的核心问题.本文着重从刻蚀深度、掩模材料以及隔离槽制备方面分析了ICP刻蚀工艺对高压LED的漏电、电极开路等电流输运问题的影响.通过随机抽取样品进行电学测试并结合SEM观测,对比了不同工艺过程,得出ICP工艺是导致串联高压LED阵列中可靠性问题的主要原因.并通过优选ICP刻蚀工艺,使高压LED电流输运特性得以改善,制备出~12V的四串联高压LED阵列器件.

Keyword:

电流输运 氮化镓 高压LED

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  • [ 1 ] [朱彦旭]北京工业大学
  • [ 2 ] [范玉宇]中国联通北京分公司
  • [ 3 ] [曹伟伟]北京工业大学
  • [ 4 ] [邓叶]北京工业大学
  • [ 5 ] [刘建朋]北京工业大学

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Source :

发光学报

ISSN: 1000-7032

Year: 2013

Issue: 10

Volume: 34

Page: 1362-1366

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