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针对多台阶器件结构深层表面光刻工艺中存在的问题，对不同台阶高度分别测量了台阶表面及台阶底部沉积的光刻胶厚度，并对台阶高度与光刻胶厚度的关系进行数值描述与分析．基于Beer定律对薄光刻胶光吸收系数的描述，分析了通过实验得到的不同曝光时间下光刻胶的光强透过率曲线，解释了随着曝光时间的增加光刻胶光强透过率发生变化的原因，同时认为光刻胶光吸收系数与光刻胶厚度密切相关．在此基础上，确定了台阶底部堆积光刻胶完全曝光所需时间．优化平面光刻工艺，在不同台阶高度的深台阶表面及底部同时制作出窄线条的高质量图形．
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物理学报
ISSN： 1000-3290
Year： 2012
Issue： 20
Volume： 61
Page： 376-383
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JCR@2022
ESI Discipline： PHYSICS;
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