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采用脉冲激光沉积(PLD)法在不同氧分压下于LaAlO3(100)基片上成功制备了SrTiO3 (STO)薄膜.通过测试,表征了薄膜的微观结构、表面形貌和光学特性.研究表明,对于利用PLD法制备STO薄膜,氧分压是重要的工艺参数.随着氧分压的降低,薄膜的结晶性变好,并发生由立方晶系到四方晶系的形变；氧分压升高,薄膜晶粒尺寸变大、数目变少,薄膜的厚度减小.薄膜在400～2500 nm的可见光和红外波段呈现较低的光学吸收.在5,10和15 Pa氧压下制备的STO薄膜的能隙宽度分别约为3.84,4.13和4.05 eV.这为STO薄膜进一步的制备与分析提供了良好的实验数据支持.
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中国激光
ISSN： 0258-7025
Year： 2011
Issue： 9
Volume： 38
Page： 149-153
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