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该文设计和制作了一款单片集成硅锗异质结双极晶体管(SiGe HBT)低噪声放大器(LNA).由于放大器采用复合型电阻负反馈结构,所以可灵活调整不同反馈电阻,同时获得合适的偏置、良好的端口匹配和低的噪声系数.基于0.35 μm Si CMOS平面工艺制定了放大器单芯片集成的工艺流程.为了进一步降低放大器的噪声系数,在制作放大器中SiGe器件时,采用钛硅合金(TiSi2)来减小晶体管基极电阻.由于没有使用占片面积大的螺旋电感,最终研制出的SiGe HBT LNA芯片面积仅为0.282 mm2.测试结果表明,在工作频带0.2-1.2 GHz内,LNA噪声系数低至2.5 dB,增益高达26.7 dB,输入输出端口反射系数分别小于-7.4 dB和-10 dB.
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电子与信息学报
ISSN： 1009-5896
Year： 2010
Issue： 8
Volume： 32
Page： 2028-2032
Cited Count：
SCOPUS Cited Count： 1
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Chinese Cited Count：
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