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以WF_6和H_2为原料,采用化学气相沉积法在纯铜基体上沉积出难熔金属钨涂层.分析研究了不同沉积温度(500 ℃, 600 ℃, 700 ℃)沉积层显微组织、表面形貌、表面粗糙度及相关机制.试验分析表明:随沉积温度升高,沉积速率加快,涂层组织柱状晶生长取向趋于杂乱;沉积层表面形貌发生明显改变,表面粗糙度显著增加.杂质颗粒对沉积组织有显著的影响,造成沉积表面粗糙度显著增加.
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Source ：
中国表面工程
ISSN： 1007-9289
Year： 2010
Issue： 1
Volume： 23
Page： 30-33
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