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针对X射线透射光栅摄谱仪中对高线密度聚焦变栅距光栅的需要,利用电子束光刻技术,研制了X射线透射变栅距光栅.利用变栅距光栅的自动生成宏文件程序,优化设计了变栅距光栅的版图,然后利用电子束光刻和微电镀技术在聚酞亚胺薄膜底衬上制备了X射线透射变栅距光栅.制作出中心线数为2000 lp/mm X射线透射变栅距光栅,栅距变化符合设计要求.衍射效率标定的结果表明,制备的变栅距光栅在中心波长处聚焦作用明显,可以大幅提高衍射光强度和光栅的分辨本领,具有重要的应用价值.
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光学学报
ISSN： 0253-2239
Year： 2010
Issue： 6
Volume： 30
Page： 1857-1860
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