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赵跃 (赵跃.) | 吴蔚 (吴蔚.) | 马麟 (马麟.) | 储静远 (储静远.) | 洪智勇 (洪智勇.) | 索红莉 (索红莉.) (Scholars:索红莉) | 金之俭 (金之俭.) | Jean-Claude Grivel (Jean-Claude Grivel.)

Abstract:

  化学溶液方法是一种生长功能氧化物薄膜的重要技术。它具有成本低廉,可精确控制薄膜成分、化学剂量比,且可以快速制备大面积薄膜等优点,它已被广泛地应用到制备具有层状结构的涂层导体中。本文简要地回顾了世界上在该领域的进展,并综述了我科研小组近期在这一方向所取得的研究成果。其中包括采用金属有机盐沉积技术路线,在织构NiW合金基带上生长具有萤石结构的CeO2基帽子层和烧绿石结构的Gd2Zr2O7隔离层。采用先进的微结构表征技术,如背散射电子衍射,卢瑟夫背散射,原位高温同步辐射技术,透射电镜等对薄膜形核生长过程,以及薄膜的使用性能进行了深入的研究。

Keyword:

卢瑟夫背散射 化学溶液 高性能 背散射电子衍射 同步辐射技术 法制备 生长过程 氧化物薄膜

Author Community:

  • [ 1 ] [金之俭]上海交通大学
  • [ 2 ] [索红莉]北京工业大学
  • [ 3 ] [Jean-Claude Grivel]丹麦技术大学
  • [ 4 ] [储静远]上海交通大学
  • [ 5 ] [吴蔚]上海交通大学
  • [ 6 ] [赵跃]上海交通大学
  • [ 7 ] [洪智勇]上海交通大学
  • [ 8 ] [马麟]北京工业大学

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Source :

Year: 2015

Page: 107-107

Language: Chinese

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