Abstract:
随着电子工业的不断发展,半导体器件越来越趋向于微型化。如何实现纳米尺度加工半导体器件,成为目前工业界以及科学研究领域的热点与难点。对于传统半导体光刻蚀与印刷技术,由于受到光的波长限制,其加工极限尺寸往往在百纳米量级。
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Year: 2016
Page: 1-1
Language: Chinese
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