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利用磁控溅射(PVD)、化学气相沉积(CVD)以及热扩散渗硅方法在TC4钛合金表面制备WSi2/W5 Si3复合涂层.采用X射线衍射仪、扫描电镜、能谱仪对复合涂层的结构、组织形貌以及微区化学成分进行分析;对复合涂层显微硬度、附着力以及耐磨性进行测试.结果表明:WSi2/W5 Si3复合涂层的WSi2层和W5 Si3层厚度分别为20、56μm,显微硬度平均值分别为10.70和8.32 GPa;WSi2/W5 Si3复合涂层与基体结合力为171.6 N;WSi2/W5 Si3复合涂层表面摩擦因数为0.75,磨损率为1.184×10-6 mm3·mm-1.在TC4钛合金表面制备的WSi2/W5 Si3复合涂层结构均匀致密,与基体结合良好.
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