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梁津 (梁津.) | 关宝璐 (关宝璐.) | 胡丕丽 (胡丕丽.) | 张峰 (张峰.) | 董晨 (董晨.) | 王菲 (王菲.) | 王志鹏 (王志鹏.)

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摘要:

基于非对称氧化技术,引入氧化孔径横向光场损耗各向异性,使得TE/TM偏振光功率差进一步增加,TM偏振得到有效抑制,从而实现795nm垂直腔面发射激光器单偏振稳定输出。实验结果显示:当氧化孔径为7μm×5.5μm时,不同温度下偏振抑制比均在10dB以上,最高达到16.56dB;当氧化孔径为20μm×18μm时,偏振抑制比也可以达到15.96dB。最终,得到偏振抑制比为16dB、水平发散角为8.349°、垂直发散角为9.340°的单偏振稳定输出795nm垂直腔面发射激光器(VCSEL),为实现单偏振高光束质量VCSEL激光光源提供了实验基础。

关键词:

单偏振 垂直腔面发射激光器 湿氮氧化 非对称氧化孔

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学光电子技术教育部重点实验室

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来源 :

半导体光电

年份: 2019

期: 04

卷: 40

页码: 489-493

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