采用电化学共沉积与磁控溅射法制备出不同Ag原子比的银铜锌锡硫(ACZTS)吸收层。利用X射线衍射(XRD),拉曼光谱,扫描电镜(SEM),X射线能谱仪(EDS)及电化学测试等分析技术对制得薄膜的成分、结构、形貌及性能进行分析和研究。结果表明:制备的ACZTS吸收层具有贫铜富锌的特点,Ag的掺入对薄膜的形貌有很大的影响,Ag原子比的增加可以明显促进晶粒长大,使薄膜表面更加致密;此外,Ag掺杂后薄膜表面具有n型与p型半导体特性;当Ag原子比为22%时,薄膜对入射光的吸收明显增强,瞬态光电流密度最大,当Ag原子比为28%时,薄膜稳态光电流密度提升最为明显。