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王思聪 (王思聪.) | 季凌飞 (季凌飞.) (学者:季凌飞) | 吴燕 (吴燕.) | 张永哲 (张永哲.) (学者:张永哲) | 闫胤洲 (闫胤洲.) (学者:闫胤洲)

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摘要:

碳化硅(SiC)作为第三代半导体的代表材料,具有禁带宽度大、热导率高和临界击穿电场高等特点,所制备的光电器件在高温、强辐射等极端、恶劣条件下有巨大的应用潜力。本文综述了国内外SiC发光性质的研究现状,介绍SiC发光的实际应用,阐述了单晶、纳米晶和薄膜不同形态SiC的制备方法及发光特点,并对SiC发光调控的研究进展进行了探讨与展望。利用新兴技术手段,可实现对SiC发光光谱和发光效率等性质的调控。

关键词:

发光 发光调控 宽禁带半导体 碳化硅

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学激光工程研究院
  • [ 2 ] 北京工业大学材料科学与工程学院

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来源 :

材料工程

年份: 2017

期: 02

卷: 45

页码: 102-111

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