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β-Ga2O3薄膜掺杂工艺及性能研究进展

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作者:

张浩 (张浩.) | 邓金祥 (邓金祥.) (学者:邓金祥) | 白志英 (白志英.) | 展开

收录:

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摘要:

β-Ga2O3薄膜因其禁带宽度大,稳定性高,生产成本低等优势,被认为是在光电探测器、发光器件等领域非常有前景的材料之一.但β-Ga2O3较低的导电率限制了其在某些领域的应用,通过掺杂技术改进β-Ga2O3薄膜在光学和电学的性能吸引了大量科研者的目光.本文介绍了几种常用的掺杂手段及掺杂对β-Ga2O3薄膜结构和光电特性的影响,并对以后的研究工作进行了展望.

关键词:

薄膜 掺杂 β-Ga2O3

作者机构:

  • [ 1 ] [张浩]北京工业大学
  • [ 2 ] [邓金祥]北京工业大学
  • [ 3 ] [白志英]北京工业大学
  • [ 4 ] [潘志伟]北京工业大学
  • [ 5 ] [孔乐]北京工业大学

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来源 :

人工晶体学报

ISSN: 1000-985X

年份: 2017

期: 9

卷: 46

页码: 1683-1690

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