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王思聪 (王思聪.) | 季凌飞 (季凌飞.) | 吴燕 (吴燕.) | 张永哲 (张永哲.) | 闫胤洲 (闫胤洲.)

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摘要:

碳化硅(SiC)作为第三代半导体的代表材料,具有禁带宽度大、热导率高和临界击穿电场高等特点,所制备的光电器件在高温、强辐射等极端、恶劣条件下有巨大的应用潜力.本文综述了国内外SiC发光性质的研究现状,介绍SiC发光的实际应用,阐述了单晶、纳米晶和薄膜不同形态SiC的制备方法及发光特点,并对SiC发光调控的研究进展进行了探讨与展望.利用新兴技术手段,可实现对SiC发光光谱和发光效率等性质的调控.

关键词:

宽禁带半导体 发光 发光调控 碳化硅

作者机构:

  • [ 1 ] [王思聪]北京工业大学
  • [ 2 ] [季凌飞]北京工业大学
  • [ 3 ] [吴燕]北京工业大学
  • [ 4 ] [张永哲]北京工业大学
  • [ 5 ] [闫胤洲]北京工业大学

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来源 :

材料工程

ISSN: 1001-4381

年份: 2017

期: 2

卷: 45

页码: 102-111

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