目的增强金刚石与基体的界面结合能力。方法首先对金刚石粉体进行＂除有机物→除油→粗化→烘干＂处理。采用自制化学气相沉积装置,研究了以H_2和WF_6为反应气体在金刚石表面CVD法镀覆钨工艺。使用扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)、X射线衍射(XRD)、透射电镜(SEM)等检测方法,分析了金刚石粉体镀层钨的微观形貌、成分、组织结构,对镀层包覆金刚石粉体相关性能进行了初步测试。结果在粒径约为223.6mm的金刚石表面获得均匀致密镀覆层的最佳工艺参数为:沉积温度670℃,沉积时间2　min,H_2通入量1　L/min,WF_6消耗量2　g/min。沉积温度为580℃时,获得的均匀致密钨镀层的厚度为15...