氨泄漏的预测和控制是选择性催化还原系统的关键问题。开展选择性催化还原系统小样试验,研究V_2O_5-WO_3/TiO_2催化剂的氨吸附脱附特性以及氨氮比和温度对氨泄漏量的影响。结果表明:氨泄漏一旦发生氨泄漏量将会迅速升高,氨泄漏临界点的预测和控制对氨泄漏量的控制至关重要;氨泄漏临界点对应的氨存储饱和度不随氨氮比和催化剂温度的变化而改变;氨氮比分别为0.7、1.0和1.4时,氨泄漏临界点对应的氨存储饱和度维持在76.7%附近波动,分别为79%、75%和76%.氨存储饱和度与氨泄漏临界点有较强的相关性,基于这种相关性设计开发了以氨存储饱和度为控制目标的控制算法,并进行了欧洲瞬态测试循环。采用该控制...