The　precipitated　silicide　phase　in　a　high-Nb　TiAl　alloyed　with　Si　addition　was　studied.　Unlike　the　Ti5Si3　precipitates　formed　in　Ti-Al-Si　ternary　system,　the　silicide　particles　formed　in　this　study　consisted　of　a　Nb5Si3　(designated　as　epsilon)　phase　and　had　a　hexagonal　D8(8)　crystal　structure.　The　volume　fraction　of　Nb5Si3　phase　increased　after　heat　treatment　at　1473　K　for　30　min　as　the　B2　phase　decomposed.　A　large　number　of　Nb5Si3　precipitated　on　lamellar　boundaries　and　had　a　specific　orientation　relationship　(OR)　with　alpha(2)　and　gamma:　(1　(1)　over　bar　0　0)epsilon//(1　(1)　over　bar　0　0)alpha(2)　and　[1　1　(2)　over　bar　0　3]epsilon//[1　1　(2)　over　bar　0]alpha(2);　(1　(1)　over　bar　0　0)epsilon//(1　(1)　over　bar　(2)　over　bar)gamma　and　[1　1　(2)　over　bar　3]epsilon//[1　1　0]gamma.　The　semi-coherent　interfaces　of　Nb5Si3　with　the　matrix　resulted　in　regular　interface　dislocations.　(C)　2015　Elsevier　B.V.　All　rights　reserved.