• 综合
  • 标题
  • 关键词
  • 摘要
  • 学者
  • 期刊-刊名
  • 期刊-ISSN
  • 会议名称
搜索

作者:

田亮 (田亮.) | 高志远 (高志远.) | 孙丽媛 (孙丽媛.) | 邹德恕 (邹德恕.)

收录:

CQVIP PKU CSCD

摘要:

研究了以铟锡氧化物(ITO)薄膜作为电流扩展层及出光窗口层的红光LED的漏电增加和抗静电能力下降的问题.结果发现,器件漏电和抗静电能力造成危害的因素并非ITO本身,而是芯片切割过程中侧壁的机械损伤和划片之后ITO颗粒沾污导致的PN结短路.通过化学腐蚀工艺清保芯片切割处的ITO薄膜、切割过程中侧壁的机械损伤痕迹和ITO颗粒的沾污,不仅使带ITO扩展层的LED器件的光提取效率提高了10%以上,抗静电能力提高了1.6倍,而且器件的漏电未受任何影响.

关键词:

抗击穿能力 漏电 铟锡氧化物(ITO)

作者机构:

  • [ 1 ] [田亮]北京工业大学
  • [ 2 ] [高志远]北京工业大学
  • [ 3 ] [孙丽媛]北京工业大学
  • [ 4 ] [邹德恕]北京工业大学

通讯作者信息:

电子邮件地址:

查看成果更多字段

相关关键词:

来源 :

光电子·激光

ISSN: 1005-0086

年份: 2013

期: 12

卷: 24

页码: 2289-2294

被引次数:

WoS核心集被引频次: 0

SCOPUS被引频次:

ESI高被引论文在榜: 0 展开所有

万方被引频次: 3

中文被引频次:

近30日浏览量: 3

归属院系:

在线人数/总访问数:1658/2979682
地址:北京工业大学图书馆(北京市朝阳区平乐园100号 邮编:100124) 联系我们:010-67392185
版权所有:北京工业大学图书馆 站点建设与维护:北京爱琴海乐之技术有限公司