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摘要:

利用双光束干涉,在光敏材料上制作光子晶体结构.通过改变两束光之间的夹角可以改变制备样品的周期.改变曝光次数以及两次曝光时干涉条纹的夹角可以分别得到一维、二维正方晶格以及二维三角晶格结构的光子晶体.

关键词:

光子晶体制作 双光束干涉 干涉光刻

作者机构:

  • [ 1 ] [李景娟]北京工业大学
  • [ 2 ] [张新平]北京工业大学
  • [ 3 ] [翟天瑞]北京工业大学
  • [ 4 ] [王丽]北京工业大学
  • [ 5 ] [江少林]北京工业大学
  • [ 6 ] [王越]北京工业大学

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来源 :

大学物理

ISSN: 1000-0712

年份: 2012

期: 5

卷: 31

页码: 54-57

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