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[期刊论文]
氢稀释比与衬底温度对硅基薄膜相变及其光电性能影响的研究
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采用热丝辅助微波电子回旋共振化学气相沉积法(HWAMWECR-CVD),通过改变衬底温度及氢稀释比制备了系列硅基薄膜,研究了衬底温度及氢稀释比对薄膜由非晶相转晶相相变及其光电性能的影响。研究结果表明,当采用低温制备硅基薄膜时,衬底温度和氢稀释比的提高都有利于非晶相向晶相的转变,但提高氢稀释比对相变的影响更为显著;晶化比越高并不代表薄膜光电性能越好,95%氢稀释比条件下制备的微晶硅薄膜具有优良的光电性能。
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来源 ：
功能材料
年份： 2012
期： 04
卷： 43
页码： 496-498,503
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材料与制造学部 材料科学与工程学院
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