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丁凯凯 (丁凯凯.) | 冯士维 (冯士维.) (学者:冯士维) | 郭春生 (郭春生.) | 刘静 (刘静.)

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摘要:

针对功率VDMOS真空下壳温显著升高的问题,对安装叉指形散热器的功率VDMOS进行了三维建模和温度场模拟分析,研究了其在大气与真空环境下的散热模型.真空环境下功率为10 W、散热片面积为278.42 cm2时,VDMOS壳温较大气下升高了89.8℃.找出了VDMOS大气及真空下壳温与工作功率及散热器表面积之间存在的关系,并进行了相应实验,利用公式计算出的器件壳温与实验壳温的最大差值,大气下不超过2℃、真空下不超过3℃,皆未超过5%,该公式可以作为功率VDMOS应用及热设计的参考依据.分析了真空环境下,功率VDMOS壳温显著升高的原因,并提出了改善措施.

关键词:

功率VDMOS 热分析 真空 可靠性 热设计

作者机构:

  • [ 1 ] [丁凯凯]北京工业大学
  • [ 2 ] [冯士维]北京工业大学
  • [ 3 ] [郭春生]北京工业大学
  • [ 4 ] [刘静]北京工业大学

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来源 :

半导体技术

ISSN: 1003-353X

年份: 2011

期: 7

页码: 510-515

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