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臧鹏 (臧鹏.) | 张跃飞 (张跃飞.) (学者:张跃飞) | 刘攀 (刘攀.) | 韩晓东 (韩晓东.) (学者:韩晓东) | 张泽 (张泽.)

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摘要:

利用直流磁控溅射在SiO2/Si双层基底上制备厚度为60 nm的银纳米晶体薄膜,使用纳米压痕仪对其进行压痕,使用原子力显微镜对压痕区域进行形貌表征,将压痕后的银薄膜转移到透射电子显微镜中观察研究微结构变化.结果表明,压痕区域呈正三角形,边缘有堆起现象;压痕前沉积态薄膜的晶粒较小呈等轴状,压痕后晶粒较大一般呈条带状,长度方向垂直于压痕边缘;压痕区域内的晶粒内出现了大量的形变孪晶,孪晶方向一般亦垂直于压痕边缘.

关键词:

形变孪晶 纳米压痕 透射电子显微镜

作者机构:

  • [ 1 ] [臧鹏]北京工业大学
  • [ 2 ] [张跃飞]北京工业大学
  • [ 3 ] [刘攀]北京工业大学
  • [ 4 ] [韩晓东]北京工业大学
  • [ 5 ] [张泽]浙江大学

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来源 :

电子显微学报

ISSN: 1000-6281

年份: 2011

期: 6

卷: 30

页码: 483-487

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