借助半导体仿真工具Silvaco中所提供的工艺摸拟器(Athena)和器件摸拟器(　Atlas),及L-Edit版图设计工具,设计了一款击穿电压高于-90　V、阈值电压为-4V的p沟VDMOS器件.经实际流片测试,器件的导通电阻小于200　m　Ω,跨导为5S,栅-源泄漏电流和零栅电压时的漏-源泄漏电流均在纳安量级水平,二极管正向压降约为-1V.采用2-D器件仿真方法以及相关物理模型对所设计的p沟VDMOS器件的单粒子烧毁(SEB)和单粒子栅击穿(SEGR)效应进行了分析和研究,并通过对所获得的器件样片采用钴-60　γ射线源进行辐照实验,研究了在一定剂量率、不同总剂量水平条件下辐照对所研制的p沟VDMOS器件相关电学参数的影响情况.