采用脉冲激光沉积(PLD)法在不同氧分压下于LaAlO3(100)基片上成功制备了SrTiO3(STO)薄膜。通过测试,表征了薄膜的微观结构、表面形貌和光学特性。研究表明,对于利用PLD法制备STO薄膜,氧分压是重要的工艺参数。随着氧分压的降低,薄膜的结晶性变好,并发生由立方晶系到四方晶系的形变;氧分压升高,薄膜晶粒尺寸变大、数目变少,薄膜的厚度减小。薄膜在400~2500　nm的可见光和红外波段呈现较低的光学吸收。在5,10和15　Pa氧压下制备的STO薄膜的能隙宽度分别约为3.84,4.13和4.05　eV。这为STO薄膜进一步的制备与分析提供了良好的实验数据支持。