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作者:

陈祺 (陈祺.) | 林平分 (林平分.) | 张玥 (张玥.)

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摘要:

当芯片设计进入深亚微米,片上工艺偏差(OCV)造成的时序不确定性,成为超大规模集成电路时序收敛中的关键问题,单纯使用传统时序分析方法,已不能完全达到时序收敛的要求.文中首先介绍了静态时序分析方法,阐述了深亚微米下OCV分析对时序收敛的重要性,并提出对OCV问题建模和分析的方法.最后通过一个具体的设计实例,运用基于OCV的时序分析方法达到时序收敛.

关键词:

建模 时序收敛 深亚微米 片上工艺偏差

作者机构:

  • [ 1 ] [陈祺]北京工业大学
  • [ 2 ] [林平分]北京工业大学
  • [ 3 ] [张玥]北京工业大学

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来源 :

电子科技

ISSN: 1007-7820

年份: 2009

期: 7

卷: 22

页码: 30-33

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