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董国波 (董国波.) | 张铭 (张铭.) | 董培明 (董培明.) | 赵学平 (赵学平.) | 严辉 (严辉.)

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摘要:

采用传统的固相烧结法制备出纯相CuLaO2粉末,以此为靶材,首次采用射频磁控溅射法制备CuLaO2 薄膜并进行退火研究,得到了具有少量杂相的CuLaO2薄膜.其透过率在红外光区较高,近70%,可见光范Itt相时较低.CuLaO2 薄膜的电导率约6.7×10-4S/cm.对比分析了CuLaO2粉末及薄膜室温光致发光性能.测试结果表明,粉末和薄膜在450 am-650 am范围都有明显的发光带,而薄膜有少量的杂峰,杂峰是由于La203、Cu的氧化物及石英衬底的影响.

关键词:

CuLaO2 光致发光 磁控溅射

作者机构:

  • [ 1 ] [董国波]北京工业大学
  • [ 2 ] [张铭]北京工业大学
  • [ 3 ] [董培明]北京工业大学
  • [ 4 ] [赵学平]北京工业大学
  • [ 5 ] [严辉]北京工业大学

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来源 :

郑州大学学报(工学版)

ISSN: 1671-6833

年份: 2008

期: 4

卷: 29

页码: 10-13

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