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钟振兴 (钟振兴.) | 韦奇 (韦奇.) | 王飞 (王飞.) | 李群艳 (李群艳.) | 聂祚仁 (聂祚仁.) (学者:聂祚仁) | 邹景霞 (邹景霞.)

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摘要:

以三氯甲烷为溶剂,氨丙基三甲氧基硅烷(APTMS)为修饰剂通过后接枝法对周期性介孔氧化硅材料(PMOS)进行修饰.通过固态NMR,氮气吸附、元素分析和UV-vis吸光度测试等手段来表征材料.结果表明,氨丙基基团通过共价连接的方式成功修饰到PMOs材料.尽管随着APTMS修饰量的增加,比表面积、孔容和孔径都呈下降趋势,但经25%APTMS修饰的PMOs材料依然具有良好的介孔结构,其表面积为604m2·g-1,孔容为0.62cm3·g-1,孔径狭窄分布在4.5~5.0nm之间.修饰后的PMOs对氯金酸有明显的吸附作用.

关键词:

PMOs 介孔结构 氨丙基基团 表面修饰

作者机构:

  • [ 1 ] [钟振兴]北京工业大学
  • [ 2 ] [韦奇]北京工业大学
  • [ 3 ] [王飞]北京工业大学
  • [ 4 ] [李群艳]北京工业大学
  • [ 5 ] [聂祚仁]北京工业大学
  • [ 6 ] [邹景霞]北京工业大学

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来源 :

无机材料学报

ISSN: 1000-324X

年份: 2008

期: 2

卷: 23

页码: 408-412

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