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作者:

徐广臣 (徐广臣.) | 何洪文 (何洪文.) | 聂京凯 (聂京凯.) | 郭福 (郭福.) (学者:郭福)

收录:

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摘要:

为抑制芯片中微小焊点的电迁移,向共晶SnBi钎料中添加微米级Ni颗粒,并在??0.5 mm铜线接头上形成焊点.结果表明:当电流密度为104 A/cm2、通电96 h后,阳极附近没有出现富Bi层,即电迁移现象得到抑制.这是由于Ni颗粒与Sn形成了IMC,阻挡了Bi沿Sn基体扩散的快速通道,防止了两相分离,提高了焊点可靠性.

关键词:

SnBi 电迁移 无铅复合钎料 Ni颗粒 电子技术

作者机构:

  • [ 1 ] [徐广臣]北京工业大学
  • [ 2 ] [何洪文]北京工业大学
  • [ 3 ] [聂京凯]北京工业大学
  • [ 4 ] [郭福]北京工业大学

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来源 :

电子元件与材料

ISSN: 1001-2028

年份: 2008

期: 11

卷: 27

页码: 60-63

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