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氮化硼薄膜的红外光谱研究
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用磁控溅射法制备六角氮化硼薄膜,在衬底温度、衬底偏压、工作气压等条件一定的情况下改变工作气体(氮气+氩气)中氮气的比例,以制备高质量的六角氮化硼薄膜,薄膜以红外吸收光谱标识.实验结果表明,工作气体中氮气的比例对制得的六角氮化硼薄膜有很大影响,在氮气比例为20%时得到理想的六角氮化硼薄膜.
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来源 ：
光散射学报
ISSN： 1004-5929
年份： 2008
期： 1
卷： 20
页码： 56-59
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