利用射频磁控溅射法制备了不同衬底温度的氧化锌(ZnO)薄膜.研究了其场发射特性,分析了场发射特性和衬底温度的变化关系.实验结果表明,　开启电场随着衬底温度的增加呈先增大后减小的趋势,场发射特性的变化是由于衬底温度的改变引起表面形貌的变化所致.衬底温度为300　℃时沉积的ZnO薄膜样品粗糙度最小,场发射性能最差,其开启场强为1.7　V/μm,场强为3.8　V/μm时电流密度仅为0.001　97　A/cm2;衬底温度为400　℃时沉积的ZnO薄膜样品表面粗糙度最大,场发射特性也优于其他薄膜;开启场强为0.82　V/μm,　场强为3.8　V/μm时电流密度稳定在0.03　A/cm2.Fowler-Nordheim(F-N)曲线为直线表明,　电子是在外加电场的作用下隧穿表面势垒束缚发射到真空的.