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于春晓 (于春晓.) | 韦奇 (韦奇.) | 王艳丽 (王艳丽.) | 李群艳 (李群艳.) | 聂祚仁 (聂祚仁.) (学者:聂祚仁) | 邹景霞 (邹景霞.)

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摘要:

用甲基三乙氧基硅烷(MTES)代替部分正硅酸乙酯(TEOS)作为前驱体,以聚乙烯醚-聚丙烯醚-聚乙烯醚三嵌段共聚物(P123)作有机模板剂,通过共水解缩聚反应制备了甲基修饰的介孔SiO2膜.利用N2吸附、FTIR、29Si MAS NMR以及接触角测量仪对膜的孔结构和疏水性进行了表征.结果表明,修饰后的膜材料具有良好的介孔结构,最可几孔径为4.65 nm,孔体积为0.69cm3·g-1,比表面积为938.4 m2·g-1;同时疏水性明显提高,当nMIES/nTEOS达到1.0时,其对水的接触角达到109°±1.1°.气体渗透实验表明气体通过膜孔的扩散由努森机制所控制.

关键词:

介孔氧化硅薄膜 孔结构 疏水性

作者机构:

  • [ 1 ] [于春晓]北京工业大学
  • [ 2 ] [韦奇]北京工业大学
  • [ 3 ] [王艳丽]北京工业大学
  • [ 4 ] [李群艳]北京工业大学
  • [ 5 ] [聂祚仁]北京工业大学
  • [ 6 ] [邹景霞]北京工业大学

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来源 :

无机化学学报

ISSN: 1001-4861

年份: 2007

期: 6

卷: 23

页码: 957-962

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