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工作气压对磁控溅射Ta2O5薄膜电学性能的影响
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信息技术的发展提出了采用高k栅介质材料替代SiO2的需要.高介电Ta2O5薄膜的研究具有很强的应用背景.但是在实际应用中,漏电流较大成为Ta2O5的一个缺点.本文研究了磁控溅射方法制备Ta2O5薄膜时工作气压对于薄膜电学性能的影响.实验制备了不同工作气压的Ta2O5薄膜,测试了样品的粗糙度和绝缘性能,并对实验结果进行了分析.
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来源 ：
河南师范大学学报（自然科学版）
ISSN： 1000-2367
年份： 2007
期： 4
卷： 35
页码： 75-78
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