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355nm激光曝光SU-8胶的XPS谱和FT-IR谱研究
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SU-8光胶因具有良好的光刻性能,并可获得稳定的高深宽比而在微加工领域得到了广泛的应用.众多研究采用不同的光源对其进行了多种光刻研究,本文应用355nm激光对SU-8胶进行曝光,分别采用XPS谱和FT-IR谱分析了SU-8胶与激光相互作用过程中,355nm激光对SU-8胶的作用以及反应前后主要成分含量、分子结构的变化,初步探讨了SU-8胶中激光曝光能量与透入深度的关系.
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来源 ：
光散射学报
ISSN： 1004-5929
年份： 2007
期： 4
卷： 19
页码： 363-368
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