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王俊忠 (王俊忠.) | 吉元 (吉元.) | 王晓冬 (王晓冬.) | 刘志民 (刘志民.) | 罗俊锋 (罗俊锋.) | 李志国 (李志国.)

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摘要:

利用电子背散射衍射(EBSD)技术,测量了由反应离子刻蚀工艺(RIE)制备的Al互连线和大马士革工艺(Damascene)制备的Cu互连线的显微结构,包括晶粒尺寸、晶体学取向和晶界特征.分析了Cu互连线线宽,及Al和Cu互连线退火工艺对互连线显微结构及电徙动失效的影响.

关键词:

电子背散射衍射 互连线 电徙动 显微结构

作者机构:

  • [ 1 ] [王俊忠]北京工业大学
  • [ 2 ] [吉元]北京工业大学
  • [ 3 ] [王晓冬]中国人民武装警察部队学院
  • [ 4 ] [刘志民]北京工业大学
  • [ 5 ] [罗俊锋]北京工业大学
  • [ 6 ] [李志国]北京工业大学

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来源 :

物理学报

ISSN: 1000-3290

年份: 2007

期: 1

卷: 56

页码: 371-375

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