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[期刊论文]

808 nm半导体激光器腔面硫钝化工艺研究

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Author:

田增霞 (田增霞.) | 崔碧峰 (崔碧峰.) | 徐晨 (徐晨.) (Scholars:徐晨) | Unfold

Indexed by:

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Abstract:

对808 nm大功率半导体激光器腔面硫钝化处理的工艺进行了研究,发现腔面硫钝化可以提高激光器的输出特性以及其可靠性,输出功率提高了16.7%;经过1 500 h老化实验后,硫钝化的半导体激光器没有明显退化,而未处理的激光器退化严重,输出功率降低了36.8%.实验表明,硫钝化时间对激光器钝化效果有很大影响,激光器腔面硫钝化时间过长会造成其损伤,使其可靠性反而下降;硫钝化5 min效果为最佳.

Keyword:

半导体激光器 硫钝化 腔面 可靠性

Author Community:

  • [ 1 ] [田增霞]北京工业大学
  • [ 2 ] [崔碧峰]北京工业大学
  • [ 3 ] [徐晨]北京工业大学
  • [ 4 ] [舒雄文]北京工业大学
  • [ 5 ] [张蕾]北京工业大学
  • [ 6 ] [沈光地]北京工业大学

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Source :

固体电子学研究与进展

ISSN: 1000-3819

Year: 2006

Issue: 2

Volume: 26

Page: 201-204

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WanFang Cited Count: 16

30 Days PV: 3

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