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臧和贵 (臧和贵.) | 常新安 (常新安.) | 张书峰 (张书峰.) | 陈学安 (陈学安.) | 肖卫强 (肖卫强.)

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摘要:

采用ICP-AES法测定了Ga3+:KTP晶体中掺质Ga3+离子含量,并由此得出Ga3+离子在相应晶体生长体系中的平均分配系数为0.0373;采用静电计和多频测试仪测定并计算出Ga3+:KTP晶体c向的电导率,将其与纯KTP晶体者进行比较.结果发现,Ga3+:KTP晶体c向电导率比纯KTP晶体c向电导率在交流情况下最大降低了两个数量级以上.文中对晶体c向电导率的降低机理进行了探讨.

关键词:

c向电导率 Ga3+:KTP晶体 分配系数

作者机构:

  • [ 1 ] [臧和贵]北京工业大学
  • [ 2 ] [常新安]北京工业大学
  • [ 3 ] [张书峰]北京工业大学
  • [ 4 ] [陈学安]北京工业大学
  • [ 5 ] [肖卫强]北京工业大学

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来源 :

人工晶体学报

ISSN: 1000-985X

年份: 2006

期: 2

卷: 35

页码: 378-380

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