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[期刊论文]
用于超精密硅晶片表面的化学机械抛光(CMP)技术研究
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化学机械抛光(CMP)技术作为目前唯一的可以提供在整个圆硅晶片上全面平坦化的工艺技术,已被越来越广泛地应用到了半导体领域.重点叙述了CMP技术背景、设备、抛光原理、发展现状、存在的问题以及未来的发展趋势.
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来源 ：
润滑与密封
ISSN： 0254-0150
年份： 2006
期： 9
页码： 206-212
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