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常新安 (常新安.) | 涂衡 (涂衡.) | 臧和贵 (臧和贵.) | 艾琳 (艾琳.)

收录:

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摘要:

分别对不同生长速度的DKDP晶体进行了退火处理.结果表明,适当温度的退火处理能有效地提高晶体的光学均匀性,尤其是对快速生长的晶体质量提高更为显著.在实验温度范围内,退火温度越高,质量改善越明显.对退火机理进行了初步讨论.

关键词:

DKDP晶体 光学均匀性 热退火

作者机构:

  • [ 1 ] [常新安]北京工业大学
  • [ 2 ] [涂衡]北京工业大学
  • [ 3 ] [臧和贵]北京工业大学
  • [ 4 ] [艾琳]北京工业大学

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来源 :

人工晶体学报

ISSN: 1000-985X

年份: 2006

期: 3

卷: 35

页码: 532-535

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