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李瑛 (李瑛.) | 冯士维 (冯士维.) (学者:冯士维) | 杨集 (杨集.) | 张跃宗 (张跃宗.) | 谢雪松 (谢雪松.) | 吕长志 (吕长志.) | 卢毅成 (卢毅成.)

收录:

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摘要:

对采用MOCVD方法沉积的ZnO单晶薄膜的欧姆接触特性、光电特性进行了研究,并对比研究了射频溅射沉积Si O2抗反射膜对ZnO薄膜I-V、光电特性的影响.实验结果表明,非合金Al/ZnO金属体系与n型ZnO形成了良好的欧姆接触,溅射沉积Si O2在ZnO表面引入了载流子陷阱,影响I-V特性,延长了光响应下降时间.ZnO单晶薄膜光电导也具有时间退化现象.

关键词:

AR膜 MOCVD RF溅射损伤 光电响应 单晶ZnO

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学电子信息与控制工程学院
  • [ 2 ] Department of Computer and Electrical Engineering Rutgers University
  • [ 3 ] Piscataway
  • [ 4 ] NJ 08854
  • [ 5 ] USA
  • [ 6 ] 北京100022

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来源 :

半导体学报

年份: 2006

期: 01

页码: 96-99

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