Indexed by：
Abstract：
研究了MEMS中的悬空薄膜制备技术.用浓硼扩散自终止腐蚀法和PECVD淀积法分别进行了试验,得到了宽厚比为3000∶1的悬空浓硼Si薄膜和宽厚比为9 000∶1的SiNx薄膜.对它们的力学特性进行了分析,用纳米硬度计测量了薄膜的杨氏模量.比较了两种方法的优劣.
Keyword：
Reprint Author's Address：
Email：
Source ：
传感技术学报
ISSN： 1004-1699
Year： 2006
Issue： 5
Volume： 19
Page： 1391-1394
Cited Count：
WoS CC Cited Count： 0
SCOPUS Cited Count：
ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All
WanFang Cited Count： 4
Chinese Cited Count：
30 Days PV： 0
Affiliated Colleges：
