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李瑛 (李瑛.) | 冯士维 (冯士维.) | 杨集 (杨集.) | 张跃宗 (张跃宗.) | 谢雪松 (谢雪松.) | 吕长志 (吕长志.) | 卢毅成 (卢毅成.)

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摘要:

对采用MOCVD方法沉积的ZnO单晶薄膜的欧姆接触特性、光电特性进行了研究,并对比研究了射频溅射沉积SiO2抗反射膜对ZnO薄膜I-V、光电特性的影响.实验结果表明,非合金Al/ZnO金属体系与n型ZnO形成了良好的欧姆接触,溅射沉积SiO2在ZnO表面引入了载流子陷阱,影响I-V特性,延长了光响应下降时间.ZnO单晶薄膜光电导也具有时间退化现象.

关键词:

RF溅射损伤 单晶ZnO 光电响应 AR膜 MOCVD

作者机构:

  • [ 1 ] [李瑛]北京工业大学
  • [ 2 ] [冯士维]北京工业大学
  • [ 3 ] [杨集]北京工业大学
  • [ 4 ] [张跃宗]北京工业大学
  • [ 5 ] [谢雪松]北京工业大学
  • [ 6 ] [吕长志]北京工业大学
  • [ 7 ] [卢毅成]Department of Computer and Electrical Engineering,Rutgers University,Piscataway,NJ 08854,USA

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来源 :

半导体学报

ISSN: 0253-4177

年份: 2006

期: 1

卷: 27

页码: 96-99

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