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王慧 (王慧.) | 沈光地 (沈光地.) | 高国 (高国.) | 梁庭 (梁庭.)

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摘要:

晶片直接键合技术是材料集成的一项新工艺,是近年来集成光电子领域的研究热点之一.利用键合技术可以集成晶格或晶向失配的材料,制造传统外延生长技术不能制造的结构和器件.概括介绍了近年来Ⅲ-V族化合物半导体材料键合技术的最新研究进展及其在光电子器件和集成领域的应用.

关键词:

Ⅲ-V族化合物 光电子集成 晶片直接键合 氮化镓

作者机构:

  • [ 1 ] [王慧]北京工业大学
  • [ 2 ] [沈光地]北京工业大学
  • [ 3 ] [高国]北京工业大学
  • [ 4 ] [梁庭]北京工业大学

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来源 :

半导体技术

ISSN: 1003-353X

年份: 2005

期: 7

卷: 30

页码: 6-10

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