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[期刊论文]
CVD温度对钼沉积层组织及性能的影响
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介绍了化学气相沉积法(CVD)制备难熔金属钼膜层的原理和方法.以MoF6和H2为原料,采用化学气相沉积法在纯铜基体上沉积出难熔金属钼膜层.分析研究了沉积层的组织、结构和硬度.实验结果表明:沉积膜层显微组织随沉积温度变化而不同,沉积温度较低时,沉积层显微组织为细晶层状结构,沉积层硬度可达677×9.8 MPa;沉积温度较高时,沉积层显微组织为致密的柱状晶,硬度稍高于一般烧结钼的硬度.
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来源 ：
稀有金属材料与工程
ISSN： 1002-185X
年份： 2005
期： 12
卷： 34
页码： 1965-1968
0 . 7 0 0
JCR@2022
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