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谢雪松 (谢雪松.) | 张小玲 (张小玲.) | 吕长志 (吕长志.) | 武利 (武利.) | 袁颖 (袁颖.) | 李志国 (李志国.) | 曹春海 (曹春海.)

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摘要:

为了获得n-GaN的低接触电阻的欧姆接触,采用Cr/Au/Ni/Au金属化系统与n-GaN形成欧姆接触,并对其不同温度下的接触电阻率进行了测试分析. 室温下Cr/Au/Ni/Au的接触电阻率为0.32mΩ·cm2,随着温度的升高,接触电阻率略有增加,在300℃时接触电阻率为0.65mΩ·cm2,因此此欧姆接触适合在高温下使用.

关键词:

n-GaN材料 接触电阻率 欧姆接触

作者机构:

  • [ 1 ] [谢雪松]北京工业大学
  • [ 2 ] [张小玲]北京工业大学
  • [ 3 ] [吕长志]北京工业大学
  • [ 4 ] [武利]北京工业大学
  • [ 5 ] [袁颖]北京工业大学
  • [ 6 ] [李志国]北京工业大学
  • [ 7 ] [曹春海]中国电子科技集团公司第55研究所(南京电子器件研究所)

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来源 :

北京工业大学学报

ISSN: 0254-0037

年份: 2005

期: 5

卷: 31

页码: 449-451

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