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热丝辅助MW ECR CVD技术高速沉积高质量氢化非晶硅薄膜(英文)
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氢化非晶硅薄膜具有优异的光电特性,在制备薄膜太阳能电池中有重要的应用。本文采用热丝辅助MW ECRCVD技术,通过调整各种工艺参数,制备了高沉积速率(DR＞2.5nm/s)及高光敏性(σph/σD＞105)的氢化非晶硅薄膜。实验表明,在衬底表面温度的分布中,热丝辐射和离子轰击引起的温度对薄膜的光敏性影响较大;在薄膜沉积的最后几分钟适当加大H稀释率,有利于薄膜光电特性的改善。
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来源 ：
人工晶体学报
年份： 2005
期： 03
页码： 471-474
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材料与制造学部 材料科学与工程学院
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