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宇慧平 (宇慧平.) | 隋允康 (隋允康.) | 张峰翊 (张峰翊.) | 常新安 (常新安.) | 安国平 (安国平.)

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摘要:

本文采用紊流模型对提拉大直径单晶硅时,对晶体旋转、坩埚旋转及二者共同作用三种情况下,熔体内的流线、等温线、氧的浓度分布、紊流粘性系数、紊动能等作了数值模拟,发现晶体的旋转能提高氧的径向均匀性,紊流粘性系数和紊动能随着坩埚转速的提高先增加后下降.晶体坩埚同时旋转时并不能有效降低紊流粘性系数,但能使子午面上的流动受到抑制,等温线更为平坦,有利于晶体生长.

关键词:

坩埚旋转 晶体旋转 直拉单晶硅 紊流模型

作者机构:

  • [ 1 ] [宇慧平]北京工业大学
  • [ 2 ] [隋允康]北京工业大学
  • [ 3 ] [张峰翊]北京有色金属研究总院
  • [ 4 ] [常新安]北京工业大学
  • [ 5 ] [安国平]北京工业大学

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来源 :

人工晶体学报

ISSN: 1000-985X

年份: 2004

期: 5

卷: 33

页码: 835-840

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