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射频磁控溅射腔面镀膜半导体激光器的可靠性
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利用射频磁控溅射法对半导体激光器的腔面镀SiO2膜,并对镀膜后的器件在恒定电流下进行了加速寿命实验,结果表明镀膜后器件的特性得到了很大改善.器件平均输出功率提高了49.8%,平均阈值电流下降了7%,平均斜率效率提高了50%,而且射频磁控溅射方法所镀的膜具有粘附性好,膜层致密、厚度易控制、稳定性好、成本低等优点,器件的可靠性也有明显提高.
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来源 ：
固体电子学研究与进展
ISSN： 1000-3819
年份： 2004
期： 2
卷： 24
页码： 229-232
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