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摘要：
用两步射频溅射法在n型Si(111)片和熔融石英片上沉积出不同体积分数的立方氮化硼(c-BN)薄膜,薄膜的成分由傅里叶红外吸收谱标识;用紫外-可见分光光度计测量了沉积在石英片上的BN薄膜的透射光谱Te(λ)和反射光谱re(λ),薄膜的厚度用台阶仪测得.由透射、反射光谱计算了薄膜的光吸收系数α,进而采用有效的中间形式,确定了氮化硼薄膜的光学带隙.结果表明:随着c-BN体积分数的增加,光学带隙随之增大.确定出的光学带隙和经验公式的计算结果相吻合.
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