In-situ　TEM　studies　were　conducted　to　reveal　the　crystallization　features　of　equi-atomic　TiNi　amorphous　thin　films.　The　TiNi　amorphous　thin　film　crystallization　procedure　can　be　divided　to　be　two　types:　the　in-homogenous　nucleation　and　growth　mode　in　the　ultra　thin　regions　and　the　homogenous　polymorphous　mode　in　the　thick　areas.　In　the　thin　regions,　the　thickness　controls　the　in-homogenous　nucleation　mode.　The　formed　nano-crystallites　in　the　thin　areas　are　with　a　size　of　5-20　nm　while　in　the　homogenous　nucleation　and　growth　mode,　the　grain　size　drops　to　the　range　of　sub-micron　level.　In　general,　the　stabilized　grain　size　is　a　function　of　thin　film　thickness　and　can　be　described　as　G　=　kx,　where　x　is　the　thickness　in　nano-meter　and　k　is　a　constant　related　to　lattice　parameter.　An　intermediate　phase　forms　through　the　crystallization　procedure　in　the　thick　region.　The　intermediate　phase　possesses　a　cubic　structure　with　lattice　parameter　of　alpha　=　9.03　A.　The　intermediate　phase　transforms　to　the　stable　132　phase　when　the　specimen　being　kept　above　the　crystallization　temperature　for　some　time.　The　crystallization　sequence　in　the　thick　region　is　determined　to　be:　TiNi　amorphous　intermediate　phase　-＞　B2　+　Ti3Ni4.