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渠红伟 (渠红伟.) | 郭霞 (郭霞.) (学者:郭霞) | 黄静 (黄静.) | 董立闽 (董立闽.) | 廉鹏 (廉鹏.) | 邓军 (邓军.) | 朱文军 (朱文军.) | 邹德恕 (邹德恕.) | 沈光地 (沈光地.)

收录:

PKU CSCD

摘要:

采用低压金属有机化合物气相外延 (L P- MOCVD) ,制备了顶端发射氧化物限制、内腔接触结构 980 nm的垂直腔面发射激光器 .应用了选择氧化和自对准工艺来实现电流限制 .在 2 8m A脉冲电流驱动下 ,器件的输出功率为10 .1m W,斜率效率为 0 .4 6 2 m W/ m A.脉冲工作下 ,最高输出功率为 13.1m W.室温连续工作下 ,输出功率为7.1m W,发射波长为 974 nm ,光谱半宽为 0 .6 nm.研究了氧化孔径对阈值电流和微分电阻的影响 ,结果表明较小的氧化孔径可以获得低的阈值电流 .

关键词:

垂直腔面发射激光器 氧化孔径 自对准工艺

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学信息学院
  • [ 2 ] 北京工业大学信息学院 北京光电子技术实验室
  • [ 3 ] 北京100022
  • [ 4 ] 北京光电子技术实验室
  • [ 5 ] 北京100022...

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来源 :

半导体学报

年份: 2004

期: 03

页码: 262-265

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